現在、リチウム電池のカソード材料は、主にリチウムコバルト酸、リチウムマンガン酸、リン酸鉄リチウムおよび三元材料である。リチウム電池カソード材料の上昇の最初の段階は、2005年から2011年までの酸化コバルト（LCO）によって支配されていました。 続きを読みます »

酸化セリウムは、CeO 2、CeO 2、淡黄色または黄褐色粉末の一種の無機物、化学式である。密度7.13g / cm 3、融点2397℃、水とアルカリに不溶、わずかに酸性に溶解します。 続きを読みます »

対象物質は、集積回路、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、記録媒体、インテリジェントガラスなどで主に使用されている薄膜を調製するための主な材料の1つであり、高純度と材料の安定性が必要です。 続きを読みます »

今日の半導体製造プロセスでは、スパッタリングターゲットは間違いなく最も重要な原材料であり、その品質と純度はその後の半導体業界チェーンの生産品質において重要な役割を果たしています。 続きを読みます »

窒化ガリウム（GaN）は、窒素とガリウムからなる一種の半導体材料である。バンドギャップ幅は2.2eVより大きいため、広帯域ギャップ半導体材料としても知られており、また中国の第3世代半導体材料としても知られている。 続きを読みます »

二硫化モリブデンは、特に高温および高圧に適した重要な固体潤滑剤である。それはまた直径を有し、直線状の光導電体として使用することができ、そして整流およびエネルギー変換の役割を果たして、半導体のp型またはn型の導電性を示すことができる。二硫化モリブデンは、複合炭化水素の脱水素のための触媒としても使用することができる。 続きを読みます »

銅亜鉛亜硫黄セレンCu 2 ZnS NS x Se 4-x（CZTSSE）は、薄膜太陽電池用の新世代の光吸収層材料である。この材料は、銅インジウムガリウムセレンCuINXGA1 - XSE2（CIGS）に類似の結晶構造と材料特性を有し、これは現在薄膜太陽電池の分野において顕著である。銅、亜鉛、錫、硫黄およびセレンは、高い光吸収係数（104cm-1を超える）、調整可能なバンドギャップ（1.0-1.5eV）および良好なフォトデプロデプレッション耐性を有する。 続きを読みます »

マグネトロンスパッタリング法を用いて、金属、半導体、絶縁体などのさまざまな材料を調製することができます。簡単な機器、簡単な制御、大きなコーティング面積、強い接着などの利点があります。これまでのところ、マグネトロンスパッタリング開発は、一般的なスパッタリング法の利点に加えて、高速、低温、低損傷を達成するためのものです。 続きを読みます »

アルミニウムターゲット、チタンターゲット、タンタルターゲット、タングステンチタンターゲットなどを含む高純度スパッタリングターゲットは、主に4つのフィールドを含みます。フラットパネルディスプレイ、半導体、貯蔵および太陽電池。 続きを読みます »

マグネシウム合金の適用物品、圧力加工品、鋳造製品および非構造用途は3つの主要な傾向です。 続きを読みます »

光学コーティングによる平面レンズの透過率に影響を及ぼす多くの原因がある。鏡の粗さは入射光を拡散させ、レンズの透過率を低下させるであろう。 続きを読みます »

高純度スパッタリングターゲット用途は、主に半導体、パネル、太陽光発電および光学装置を含む。集積回路、フラットパネルディスプレイ、太陽電池、情報記憶装置、工具修正、光学装置、高品位の装飾品、およびその他の製造方法はスパッタリングコーティングプロセスを実行する必要があり、スパッタリングターゲット適用分野は非常に広い。 続きを読みます »

現在、中国における要素添加の主な技術の主な技術は、中間合金の添加と合金元素の添加剤付加を含みます。中間合金を追加する技術は、1950年代から1960年代後半まで中国で使用され始めました。 続きを読みます »

酸化リチウム酸化物は式LiCoO 2の化学式を有する化合物である。酸化リチウムは濃い青または青みがかった結晶性の固体であり、リチウムイオン電池の正電極に一般的に使用されている。非常に高いエネルギー密度を有することのために、将来の電気自動車用途で使用するための最も有望なエネルギー貯蔵および変換装置候補として。 続きを読みます »

窒化シリコンは、高い硬度、安定した構造、低熱膨張係数、耐酸化性および耐食性が非常に良好なセラミック材料の優れた熱特性の非常に良好なセットです。 続きを読みます »