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ニュース

  • 03-11
    2022
    [ニュース] 半導体材料の用途

    半導体材料は、半導体特性を有する一種の電子材料であり、半導体デバイスを製造するために使用される。半導体材料は半導体産業の基礎であり、その開発は半導体技術の開発に大きな影響を与える。それで、半導体材料の特性と応用は何ですか? 続きを読みます »

  • 03-10
    2022
    [ニュース] 赤外線カルコゲナイドガラス

    近年、カルコゲナイドガラスは新世代の赤外線光学レンズ材料と見なされている。一般的な赤外線光学材料は主にZnSe結晶、Si単結晶、Ge単結晶、絨毛性ガラス、フッ化物などを含む。カルコゲナイドガラスは、優れた性能を有する一種の赤外線光学材料である。 続きを読みます »

  • 03-09
    2022
    [ニュース] ゼロ次元、一次元、二次元ナノ材料とは

    ナノ材料は、グラフェン、フラーレンC 60、カーボンナノチューブ、銀ナノワイヤ、二酸化ケイ素ナノワイヤなどの少なくとも1つの寸法(例えば、長さ(x)、幅(y)、高さ(z))で0.1~100ナノメートルのサイズを有する材料である。 、ジスルフィドモリブデンなどは、ナノ材料をゼロ次元、一次元および二次元ナノ材料に分けられる。 続きを読みます »

  • 03-08
    2022
    [ニュース] 一般分野におけるマグネトロンスパッタリングコーティング応用

    マグネトロンスパッタリング法を用いて、金属、半導体、絶縁体などのさまざまな材料を調製することができます。簡単な機器、簡単な制御、大きなコーティング面積、強い接着などの利点があります。これまでのところ、マグネトロンスパッタリング開発は、一般的なスパッタリング法の利点に加えて、高速、低温、低損傷を達成するためのものです。 続きを読みます »

  • 03-07
    2022
    [ニュース] スパッタリングターゲットなぜターゲットをバインドするのか

    スパッタリングターゲットは、主に、集積回路、情報記憶、液晶表示装置、レーザメモリ、電子制御装置などの電子情報業界で使用されている。ガラス塗装、耐摩耗性材料、高温耐食性にも使用できる。高級装飾品やその他の業界。結合とは、ターゲットをはんだでバックターゲットに結合させることをいう。 続きを読みます »

  • 03-04
    2022
    [ニュース] セラミックターゲット - それの特性に影響する3つの主な要因

    セラミックターゲットの純度は、スパッタリングフィルムの性能に大きな影響を与える。純度が高いほど、スパッタリングフィルムの均一性およびバッチ製品の品質が向上する。また、高性能セラミックターゲットを調製するために、主に成形方法、原料サイズ、焼結効果を含むこれらの要因を制御して、セラミックターゲットの性能に影響を与える主な要因を解析する必要があります。 続きを読みます »

  • 03-03
    2022
    [ニュース] 窒化アルミニウム応用

    窒化アルミニウムは、高い抵抗率、高い熱伝導率(8~10倍のAl 2 O 3)、およびシリコンと同様の低膨張係数を有し、高温高電力電子デバイスの理想的な材料になります。一般的に使用されているセラミック基板材料は、アルミナセラミック基板熱伝導率が低い、熱膨張係数とシリコンが一致しない。 続きを読みます »

  • 03-02
    2022
    [ニュース] クロム酸化物粉末とは何ですか?

    酸化クロムグリーン、金属光沢を有する六角形または非晶質濃緑緑色。それは通常2つの色合いがあります:軽いオリーブグリーンとダークオリーブグリーン、金属色の色合い。相対密度5.21、融点:2266℃、沸点4000℃。優れた耐熱性は、変色せずに1000℃に耐えることができ、耐酸性、アルカリ性もかなり良好です。高純度、小さい粒径、均一な分布、結晶は非常に硬い。 続きを読みます »

  • 03-01
    2022
    [ニュース] 研磨中の酸化セリウム

    酸化セリウム研磨粉(VK - CE01)研磨粉は、強い切削能力、高い研磨効率、高い研磨精度、良好な研磨品質、クリーンな運転環境、小型汚染、長い耐用年数などの利点を有する。光学精密研磨とCMPおよび他の分野における重要な役割 続きを読みます »

  • 02-28
    2022
    [ニュース] PVDスパッタリングターゲットのはじめに

    物理気相成長(PVD)は、真空条件下で標的の表面をガス状原子、分子、または部品に物理的に気化させる薄膜製剤技術である。次いで、低圧ガス(またはプラズマ)を介して特定の機能を有するフィルムが基板の表面上に堆積される。物理蒸着の主な方法としては、真空蒸着、スパッタリング蒸着、アークプラズマめっき、イオンプレーティングなどが挙げられる。 続きを読みます »

  • 02-25
    2022
    [ニュース] ターゲット - 半導体製造材料

    ターゲット材料は、異なるレーザー(イオンビーム)および異なるターゲット材料の相互作用を介して、異なる膜系を介して異なる膜系を介して、伝導および遮断の機能を達成するための異なる膜系を介して異なる膜系を介して薄膜を製造する材料の材料である。 。したがって、ターゲットは「スパッタリングターゲット」とも呼ばれます。彼の作業の原理は、イオン源によって生成されたイオンを使用して真空中で加速することです。 続きを読みます »

  • 02-24
    2022
    [ニュース] 三元材料

    リチウム電池用の一般的なカソード材料は、主にリチウムコバルト酸(LCO)、リチウムマンガン酸(LMO)、リン酸鉄(LFP)、三元材料(NCM / NCA)などを含む。 -NaFeO2層状構造(R-3M空間群)は、約275 mAh / gの理論容量を有する。 続きを読みます »

  • 02-23
    2022
    [ニュース] 半導体材料の特性と応用

    半導体材料は、半導体特性を有する一種の電子材料であり、半導体デバイスを製造するために使用される。半導体材料は半導体産業の基礎であり、その開発は半導体技術の開発に大きな影響を与える。それで、半導体材料の特性と応用は何ですか? 続きを読みます »

  • 02-22
    2022
    [ニュース] 光学結晶の序論

    光学結晶は、光学媒体材料に使用される一種の結晶材料である。紫外線や赤外線加工のさまざまな分野で窓片、レンズ、プリズムを製造するのに広く使用されています。結晶構造によると、単結晶と多結晶に分けられます。単結晶材料は、高い結晶の完全性および光透過率、ならびに低い入力損失を有するので、一般的な光学結晶は単結晶によって支配される。 続きを読みます »

  • 02-21
    2022
    [ニュース] 炭化ケイ素 - 第3世代半導体材料

    半導体材料現像後、第1世代のシリコン半導体材料は完全な結晶に近いものであり、シリコン材料の研究も非常に徹底的に徹底されています。シリコン材料に基づく装置の設計と開発は、多くの世代の構造的および技術的最適化および更新を経験し、そして徐々にシリコン材料の限界に近づいている。 続きを読みます »