スパッタリングターゲットは、半導体の収量を決定するための最も重要な要素です。半導体に適用され、必要な精度度が最も高い純度、スパッタリングターゲット材料の純度の程度、精度は半導体の性能に直接影響を与えるため、スパッタリングターゲット材料の差が最も直接的な影響を受ける半導体短絡 続きを読みます »

高密度磁気記録材料は、高い記録密度、高い保磁力（最大119.4ka / m）、高い信号対雑音比の利点を用いて、テープおよび大容量の硬質およびソフトディスクの性能を大幅に向上させることができる。ナノコバルト粉末の良好な耐酸化性2.鉄、コバルト、ニッケル、およびそれらの合金粉末製の磁性流体優れた性能の優れた性能の密着性能は、衝撃吸収、音調整、ライトディスプレイなどに広く使用できます。 続きを読みます »

酸化亜鉛は、大きなバンドギャップおよび励起子結合エネルギー、高い透明性、室温で優れた発光性能を有し、液晶ディスプレイの半導体分野、薄膜トランジスタ、発光ダイオードおよび他の製品に使用されている。さらに、ナノ材料の一種として、微粒子酸化亜鉛も関連分野において役割を果たすことが始まっている。 続きを読みます »

タンタルおよびタンタル合金は、高融点、良好な耐食性、優れた高温強度、良好な加工性能、溶接性、低塑性/脆性遷移および優れた動的機械的性質の利点を有する。それは電子機器、武器、化学産業、航空宇宙産業および宇宙原子力発電システムなどで広く使用されています。1600℃~1 800℃で働くための理想的な構造材料です。 続きを読みます »

薄い酸化マグネシウムは非常に広く使用されており、光学酸化マグネシウムの製造方法は非常に環境に優しい、酸化マグネシウムのより高度な国内生産プロセスは一般的に以下の通りである.1。光マグネシウムは伝統的なロータリーで焼成されている主原料として水酸化マグネシウムを用いた焼成キルン。 続きを読みます »

CVDの主な利点と短所は何ですか？ CVDは、加熱された固体基材上で化学的に反応しそしてそれを固体フィルムで被覆するために1つ以上のガスを使用する。 利点：1。真空度の要求は高くない、熱スプレーコーティングのような真空を必要としない。急速な堆積速度、大気中のCVDは1μm/分に達することができます。 PVDと比較して。化学組成または合金コーティングは達成が容易である。 続きを読みます »

現在、ナノ材料の製造と適用の両方がすべての国の注目を集めています。中国のナノテクノロジーは、ナノレベルSiO 2、TiO 2、Al 2 O 3、ZnO 2、Fe 2 O 3および他の粉末材料で継続的な進歩を遂げてきましたが、産業生産や試作が成功していますが、既存の製造プロセス、高生産コストはその致命的な弱点です。ナノ材料の促進と適用であるので、私たちは改善し続けるべきです。 続きを読みます »

高純度タングステンターゲットは、半導体デバイスにおける酸化タングステン膜の遷移のための重要な基質である。タングステンの融点が高いため、タングステンターゲットは主に粉末冶金によって調製されています。調製方法は、前脱ガスのための真空熱処理炉内に配置された、均一な混合のための99.999％以上の粒径、3.2μmのタングステン粉末の純度を含み、次いで水素中に加熱脱気工程を続けることを含む。 続きを読みます »

ナノ材料の様々な分野におけるナノ材料の適用ナノ材料は、体積効果、表面効果、量子サイズ効果、巨視的な量子トンネル効果などを有し、それはそれらが従来の材料が電気、磁気、光および他の態様にはないという特徴を提示する。科学者やエンジニアは、ナノ材料の特別な特性を使用することによって多くの技術的問題を解決しました。 続きを読みます »

設計上のシリコンデバイスをベースにして、構造およびプロセスの最適化の多くの世代を経て、更新され、更新は徐々にシリコンデバイスの性能を向上させる可能性に基づいてシリコン材料の限界に近いものである。第3世代の半導体の代表として窒化シリコン、炭化ケイ素は、パワーエレクトロニック装置の性能をさらに向上させるために材料の優れた物理的性質を有する。 続きを読みます »

機能性材料中の希土類の希土類の研究と応用は、主に希土類ナノ材料、希土類超微細ナノ材料、機能性ポリマー中の希土類の応用、希土類ベースのPVC熱安定剤の研究とそのスモッグ抑制性能、および準備そして水素貯蔵材料および水素エネルギー応用産業において主に使用される希土類ナノロイ触媒の性能。 続きを読みます »

マグネトロンスパッタリングコーティングは、電子銃システムを使用して電子を放出し、コーティングされた材料に焦点を合わせることである新しい物理的気体相コーティング法であるため、スパッタリング原子が高い速度論で材料から飛び降りるようにする。基板堆積膜へのエネルギー。このメッキ材料をスパッタリングターゲットと呼ぶ。 続きを読みます »

ホウ素ジルコニウムはホウ素中の一般的な材料であり、ボロン - ジルコニウム系にはそれぞれ、単独で硼化ジルコニウム（ZrB）、二ホウ化ジルコニウム（ZrB 2）およびジルコニウム12硼化物（ZRB12）がある。しかしながら、二ホウ化ジルコニウムの広い温度範囲での良好な安定性のために、硼化ジルコニウムの工業的生産は主成分と主成分として二酸化ジルコニウムである。 続きを読みます »

ブラックダイヤモンドとしても知られる炭化ホウ素は有機的な形である。分子形はB℃である。それは通常灰色がかった黒い微粉末です。それは知られている3つの最も難しい材料の1つです（他のものはダイヤモンドと立方体の窒化ホウ素である）、そして多くの工業用途に使用されます。それは9.3のMOHS硬さを持っています。それで、炭化ホウ素の性質と化学的性質は何ですか？ 続きを読みます »

3D印刷材料の要件を満たすために、金属粉末はどのような条件を満たす必要がありますか？セラミック介在物は最終製品の性能を大幅に減少させ、これらの包含物は一般に高い融点を有し、焼結することは困難であるので、セラミック介在物は粉末中になければならない。 続きを読みます »