スパッタリングターゲットは、主に、集積回路、情報記憶、液晶表示装置、レーザメモリ、電子制御装置などの電子情報業界で使用されている。ガラス塗装、耐摩耗性材料、高温耐食性にも使用できる。高級装飾品やその他の業界。結合とは、ターゲットをはんだでバックターゲットに結合させることをいう。 続きを読みます »

セラミックターゲットの純度は、スパッタリングフィルムの性能に大きな影響を与える。純度が高いほど、スパッタリングフィルムの均一性およびバッチ製品の品質が向上する。また、高性能セラミックターゲットを調製するために、主に成形方法、原料サイズ、焼結効果を含むこれらの要因を制御して、セラミックターゲットの性能に影響を与える主な要因を解析する必要があります。 続きを読みます »

ターゲット材料は、異なるレーザー（イオンビーム）および異なるターゲット材料の相互作用を介して、異なる膜系を介して異なる膜系を介して、伝導および遮断の機能を達成するための異なる膜系を介して異なる膜系を介して薄膜を製造する材料の材料である。 。したがって、ターゲットは「スパッタリングターゲット」とも呼ばれます。彼の作業の原理は、イオン源によって生成されたイオンを使用して真空中で加速することです。 続きを読みます »

マグネトロンスパッタリングコーティングは、電子銃システムを使用して電子を放出し、コーティングされた材料に焦点を合わせることである新しい物理的気体相コーティング法であるため、スパッタリング原子が高い速度論で材料から飛び降りるようにする。基板堆積膜へのエネルギー。このメッキ材料をスパッタリングターゲットと呼ぶ。 続きを読みます »

金属ターゲットニッケル、Ni、チタン、Ti、亜鉛、Zn、クロム、Cr、マグネシウム、Mg、ニオブ、Nb、TiN、Sn、アルミニウム、Al、インジウム、In、鉄、Fe、ジルコニウム、亜鉛、亜鉛、チタン - アルミニウム、 TiAr、​​ジルコニウム、Zr、アルミニウム - ケイ素、AlSi、シリコン、Si、銅、Cu、タンタル、T、A、Ge、銀ターゲット、Agターゲット、コバルトターゲット、Coターゲット、金ターゲット、Auターゲット、ガドリニウムターゲット 続きを読みます »

現在、ターゲット材料は主に鋳造および粉末冶金によって調製される。鋳造方法：一定の組成比の合金原料を溶融させた後、合金溶液を型に注入してインゴットを形成し、最後に機械加工によりターゲットを鋳造して鋳造する。真空。 続きを読みます »

中国は再生可能エネルギー開発と利用の規模で世界で最初にランク付けされます。中国は最初に世界で最初にランク付けされ、国立エネルギー管理のディレクター、グリーンおよび低炭素エネルギー変換のための強力な支援を提供し、Zhang Jianhua 続きを読みます »