窒化タンタル（TaN）スパッタリングターゲット

特性

窒化タンタル（TAN）は、タンタルの窒化物、化合物である。 TAからのシームミルでは、化合物の複数の相がある。₂nからta.₃N₅タンを含む。

化学式：Tan.

モル質量：194.955 g / mol

外観：黒いクリスタル

密度：14.3 g / cm³

融点：3,090°C（5,590°F; 3,360 K）

水への溶解度：不溶性

結晶構造：六角形、HP6

応用

それは、銅、または他の導電性金属の間に拡散障壁または「接着剤」層を作り出すために集積回路製造において使用されることがある。 BEOL処理（C.20nm）の場合、銅を最初にタンタルで被覆し、次いで物理気相成長法（PVD）を用いてTaNで塗布する。次いで、このバリア被覆銅をPVDによりより多くの銅で被覆し、そして機械的に処理される前に電解塗布銅を充填する。

薄膜抵抗器にも用途があります。それは、水分に耐性のある不動態化酸化膜を形成するニクローム抵抗体よりも有利である。