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タンタルスパッタリングターゲットの用途

数ブラウズ:1     著者:サイトエディタ     公開された: 2021-12-20      起源:パワード

の応用タンタルスパッタリングターゲット

高性能タンタルスパッタリング材料は、フィルムコーティング、CD-ROM、装飾、フラットパネルディスプレイ、機能性コーティング、およびその他の光学情報収納スペース業界、自動車用ガラスや建築用ガラスなどのガラスコーティング業界、光通信などを使用できます。

コンデンサクラス

毎年消費されるタンタルの約半分は、主にコンデンサやワイヤの粉末として電子産業に行きます。 Tantalumコンデンサは、電気通信、データ保存、および埋め込み型医療機器における宇宙敏感ハイエンド用途に好ましい。

2.半導体

タンタルスパッタリングターゲットは、物理気相成長(PVD)プロセスを使用して半導体基板上に「スパッタリング」されて、銅相互接続を保護するための薄膜拡散障壁を形成する。タンタルスパッタリングターゲットは、磁気記憶媒体、インクジェットプリンタヘッド、フラットパネルディスプレイを含む様々な他の製品にも使用されている。

エンジンタービンブレード

この金属の高融点および耐食性は、合金用途に非常に適しています。タンタルは、主に航空機エンジンおよび陸上ガスタービンのタービンブレードのためのニッケルベースの超合金に使用されています。

4.化学処理装置

タンタルの極端な耐食性と高温特性は、金属と薬学的産業の中のコンテナ、パイプ、バルブ、および熱交換器のための理想的な建築材料を金属にします。