アルミニウム金属（Al）-回転式スパッタリングターゲット

特性

製品の化学組成と物理的性質：

化学式：Al

成形プロセス：スプレー

密度：\" 2.6 g / cm3

純度：\" 99.9％

不純物含有量（単位：PPM、総不純物含有量≤1000ppm）

応用

主に表面装飾、機能性コーティングおよび蒸着材料、半導体エレクトロニクス、TFT、フラットディスプレイに使用されます。