AZOターゲット（アルミナドープ酸化亜鉛）

アルミニウムをドープしたZnO（AZO）薄膜は、2種類の基板（ガラスとシリコンウエハー、基板温度300 C、電圧18 kV、エミッターからコレクターまでの距離6 cm）へのエレクトロスプレーの経済的で多様な製造方法によって堆積されます、脱イオン水、エタノール、酢酸の混合液に溶解した酢酸亜鉛脱水物を、アンドープZnO膜の堆積に使用します。一方、Alドープには、エタノールに溶解した塩化アルミニウムと硝酸アルミニウムの2つの前駆体材料を選択します。ドーピングレベルは5および10 wt％であり、膜特性の濃度依存性が調査されます。すべての膜は多結晶構造を示し、無結晶膜の21 crystalnmから、それぞれ5および10 wt％AlをドープしたAZO（アルミナドープ酸化亜鉛）膜の結晶子サイズが19 nmおよび17 crystalnmに減少します。ドープされたサンプルのXRDピークが高い回折角に向かってシフトすると、ZnO格子へのAlの取り込みが成功したことがわかります。光学特性は、偏光解析法とフォトルミネッセンス測定によって調査されます。ドープされていないサンプルの屈折率が1.89から5％と10％のAZO（アルミナドープ酸化亜鉛）膜でそれぞれ1.84および1.83に減少し、光学バンドギャップが3.30 eVから3.40 eVに増加することが観察されます。シート抵抗の大幅な減少がAZOフィルムで測定されます：5 wt％と10％ドープのサンプルでそれぞれ86Ω/□と61Ω/□。同時に、フィルムの透過率は高く保たれます。 200 nmの厚さのフィルムの可視範囲の平均値は、ドープされていないフィルムでは86％、5％および10％のAlドープフィルムではそれぞれ84％および80％です。このように、研究されたフィルムの透明導電性電極としての適用性が示されている。