セラミックターゲット - それらの種類は何ですか？

高温セラミック材料の種類は何ですか？

適用によると、それは関連する半導体に分けることができるセラミックターゲット、セラミックターゲット、磁気記録セラミックターゲット、光記録セラミックターゲット、超伝導セラミックターゲット、巨大磁気抵抗セラミックターゲットなど

半導体会合セラミックターゲット材料（HFO、SiO、Si 3 N 4、MoSi、スリップ、WSI、TiSi、PLZT、ITOは主にゲート誘電体膜に主に使用する。トン膜、拡散阻止膜、キャパシタ絶縁膜、透明導電膜。

セラミック標的ZnS - Mn、ZnS - Tb、ZnS - Sm、CaS - Eu、SrS - Ce、Si 3 N 4、主にエレクトロルミネッセンス膜発光層、エレクトロルミネセント膜絶縁層、ディスクなどに使用されるMgO。

磁気ヘッド、磁気ディスク（MO）保護に主に使用されている磁気記録セラミックターゲットSi3N4。

光ディスク保護フィルムに主に使用されている光記録セラミックレーキSi3N4。

超伝導セラミックターゲットYBACUO、Bisrcacuoは、超電導フィルムで主に使用されています。

巨大磁気抵抗セラミックターゲットは主に薄膜太陽電池窓に使用されている。

その他のターゲット、Inišo、LiNboň、Baitio（PZT）。 ZnOは、主に太陽電池、圧電薄膜で使用されています。

化学組成によれば、酸化物セラミックターゲット、シリサイドセラミックターゲット、窒化物セラミックターゲット、フッ化物セラミックターゲットおよび硫化物セラミックターゲットなどに分けられます。平面表示ITOセラミック目標は、中国に広く製造され適用されています。高誘電絶縁膜および巨大磁気抵抗セラミックターゲットのためのセラミックターゲットは、幅広い応用の見通しを有する。