テルビウム鉄合金(TbFe(45 / 55at%)) - スパッタリングターゲット

製品説明

fun fun生産専用高品質のスパッタリングターゲット、セラミックターゲット、金属ターゲット。製品は、さまざまな方法(マグネトロンスパッタリング、真空めっきなど)によってさまざまな真空コーティングに適用されます。科学研究、航空宇宙、自動車、マイクロエレクトリック、集積回路業界、光源、光学系、装飾、フラットパネルディスプレイ産業、情報ストレージ業界、データストレージなど。


1.金属ターゲット

ニッケルターゲット、チタンターゲット、亜鉛標的、クロムターゲット、マグネシウムターゲット、ニオブターゲット、錫ターゲット、アルミニウムターゲット、インジウムターゲット、鉄ターゲット、ジルコニウムターゲット、シリコンターゲット、銅ターゲット、タンタルターゲット、ゲルマニウムターゲット、銀ターゲット、金ターゲット、ガドリニウムターゲット、ランタンターゲット、イットリウムターゲット、セリウムターゲット、ハフニウムターゲット、モリブデンターゲット、タングステンターゲット、ステンレス鋼ターゲット、ジルコニウムアルミニウムターゲット、ニッケル鉄ターゲット、チタンアルミニウムターゲット、ニッケルクロムターゲット、銅シリコンターゲット、亜鉛Aliminumターゲットなど


セラミック材料ターゲット

ITO標的、アゾターゲット、IGZO標的、酸化マグネシウム標的、酸化鉄標的、酸化鉄標的、酸化ニッケル酸化クロム標的、酸化亜鉛標的、硫化亜鉛標的、硫化亜鉛標的、硫化モリブデン標的、シリコン一酸化セリウム標的、二酸化ジルコニウム標的、五酸化ニオブターゲット、二酸化チタン標的、二酸化モリブデン標的、二酸化ハフニウム標的、二酸化チタンターゲット、二酸化ジルコニウム標的、三酸化アルミニウム標的、五酸化アルミニウム標的、フッ化マグネシウム標的、フッ化イットリウムターゲット、セレン化亜鉛ターゲット、窒化アルミニウムターゲット、窒化ケイ素ターゲット、窒化ホウ素ターゲット、窒化チタンターゲット、炭化ケイ素ターゲット、ニオブ酸リチウムターゲット、プラセオジムチタン酸塩ターゲット、チタン酸バリウムターゲットなど。


合金材料ターゲット

チタンアルミニウムTi  -  Al、ケイ酸アルミニウムAl  -  Si、アルミニウムチタンAl  -  Ti、銀銅Ag  -  Cu、アルミニウムマグネシウムAl  -  Mg、コバルト鉄ホウ素Co  -  Fe  -  B、銅インジウムガリウムCu  -  In  -  Ga、フェリマンガニック性Fe -Mn、インジウム錫In-Sn、コバルト鉄Co-Fe、ニッケル鉄Ni-Fe、ニッケル鉄Ni-Fe、ニッケルクロムNi-Cr、ニッケルジルコニウムNi-Zr、ニッケルアルミニウムNi-Al、ニッケル銅Ni-Cu 、ニッケルバナジウムNi  -  V、チタンタングステンTi  -  W、亜鉛アルミニウムZn  -  Al、アルミニウムチタンBoron Al  -  Ti  -  B、アルミニウムバナジウムAl  -  V、アルミニウムスカンジウムAl  -  Sc、銅錫Cu  -  Sn、ジルコニウムアルミZr- Al、ボロン鉄など


テルビウム鉄合金(TBFE) - パウダー

臭化テルビウム(TbBr3) - パウダー

塩化テルビウム(TbCl3) - パウダー

ジスプロシウム窒化物(DyN) - owder.

オエロピウムシュウ酸水和物(Eu2(C2O4)3 xH2O) - 粉末

塩化ホルミウム(HoCl3) - 粉末