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12007-81-7
Sib4.
140500pd
99.5％
-100メッシュ - 400メッシュ
特性
ホウ化ケイ素（ケイ化ホウ素としても知られる）は、ケイ素とホウ素の間に形成される軽量のセラミック化合物です。いくつかの化学量論的ホウ化ケイ素化合物、SiBnが報告されています：三ホウ化ケイ素、SiB3、四ホウ化ケイ素、SiB4、六ホウ化ケイ素、SiB6、およびSiBn（n = 14、15、40など）SiB4-xとSiB6の両方空気または酸素中で加熱すると表面的に酸化され、それぞれが高温で沸騰硫酸およびフッ素、塩素、および臭素によって攻撃されます。ホウ化シリコンは導電性です。
化学式：B4Si
モル質量：71.33g / mol
外観：しっかり
密度：25°Cで2.4 g / mL
融点：1870°C
応用
四ホウ化物は、スペースシャトルの熱シールドタイルのいくつかの黒いコーティングに使用されました。
特性
ホウ化ケイ素（ケイ化ホウ素としても知られる）は、ケイ素とホウ素の間に形成される軽量のセラミック化合物です。いくつかの化学量論的ホウ化ケイ素化合物、SiBnが報告されています：三ホウ化ケイ素、SiB3、四ホウ化ケイ素、SiB4、六ホウ化ケイ素、SiB6、およびSiBn（n = 14、15、40など）SiB4-xとSiB6の両方空気または酸素中で加熱すると表面的に酸化され、それぞれが高温で沸騰硫酸およびフッ素、塩素、および臭素によって攻撃されます。ホウ化シリコンは導電性です。
化学式：B4Si
モル質量：71.33g / mol
外観：しっかり
密度：25°Cで2.4 g / mL
融点：1870°C
応用
四ホウ化物は、スペースシャトルの熱シールドタイルのいくつかの黒いコーティングに使用されました。
